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科研设备 科研仪器设备 科研专用加热设备 晨立专业设计定制

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详细说明

    科研炉是半导体加工中的典型热处理设备，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。







主要技术参数：

◆工艺管数量：1-4管

◆工艺管口径：Φ90-360mm（3～12英寸）

◆工作温度范围：400～1280℃

◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm

◆工艺均匀性:≤±5％（30~60欧姆）



◆结构型式：卧式热壁型

◆气体流量设定精度:±1％F.S

◆气路系统气密性： 1×10-7pa.m3/s

◆超净工作台：净化等级：100级（万级厂房）噪音：≤62dB（A）震动：≤3μm

◆记录工艺曲线数量及工艺步数不受限制

◆控制方式： 工业微机控制

 
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