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碳化硅氧化炉 真空退火炉 高温扩散炉 青岛晨立电子有限公司

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详细说明

    一、设备结构:

1、操作方式:左(右)手操作方式

2、硅片尺寸:圆形6寸片

3、工艺布局:满足客户工艺要求





4、自动化程度:工控机控制系统自动控制工艺流程

5、送取片方式:手动进出舟。

6、外形:主机1台，主机架为卧式两管。

二、主要技术参数:

1、加热炉管有效口径:满足6英寸硅片。可向下兼容5寸和4寸硅片。

2、工作温度范围:上管:600~1400℃

下管:200~500℃

3、恒温区长度及精度:600mm，

上管:800-1400℃.±0.2℃/24h

下管:200-500℃.±0.2℃/24h

4、控制方式:由工控机统一管理工艺

5、气路设置:每管两路气体:氮气100L/min.氩气100L/min。均采用MFC自动控制流量大小。

 
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